真空磁控溅射和多弧溅射介绍

溅射涂层技术可生产形态致密且无缺陷的涂层。微观结构的控制保证了对表面的完美粘附。

结果是在原子水平上形成致密且极其光滑的涂层，并且大大超过了经典溅射和 Arco 涂层的质量和韧性。

得益于腾胜科技的专有技术，PVD 2.0 技术特别适用于汽车行业以及您希望从 PVD 获得最大性能的领域。

PVD 2.0 使用长脉冲（高达 3.0 毫秒），在阴极上具有数百千瓦的功率。这赋予原子高能量，以便将它们投射到基材的表面层中，沉积致密的粘附涂层，没有表面缺陷且非常坚硬（> 30 GPa）并且杨氏模量增加（> 368 GPa）。

涂层示例：
●耐腐蚀性：CrN / NbN
●抗氧化性：CrAlYN/CrN、Ti-Al-Si-N、Cr-Al-Si-N
●光学系统：Ag、TiO2、ZnO、InSnO、ZrO2、CuInGaSe
●最大相：TiSiC
●微电子：Cu、Ti、TiN、Ta、TaN
●硬质涂层：氮化碳 CNx、Ti – C
●疏水表面：HfO2
磁控溅射镀膜机技术数据：
平均功率：20 千瓦
峰值功率高达 3 MW
最大功率：1500 V / 2000 A
脉冲长度：50-1500 ms