科研、实验室镀膜设备

产品详情

设备简述：公司可以针对科研院所、企业实验室等研发机构的需求，订制科研用途的小型真空镀膜设备，包括各类磁控溅射镀膜机、电弧离子镀膜机、蒸发镀膜机、PECVD化学气相沉积设备、ALD原子层沉积设备等，还可以设计成多功能复合型镀膜设备。

设备用途：此类设备主要用于高校、科研机构或企业实验室作为新工艺及新材料研发等用途，也可以用于小批量试验或样品打样。可以用于镀制如：光学膜、导电膜、硬质膜、润滑膜、屏蔽膜、散热膜、电学膜、绝缘膜等等。

设备特点：我公司可以根据用户的不同需求，做成钟罩式、箱式、连续式、卷绕式等不同的设备结构，可以配置磁控溅射阴极、电弧源、电子枪蒸发源、激光镀膜源、PECVD电极等镀膜系统，可选装的辅助镀膜系统包括：加热烘烤、脉冲偏压、离子源、离子轰击、RF或微波放电装置等等。