E-beam evaporation

电子束蒸发

电子束蒸发属于物理气相沉积的一种，与传统蒸发方式不同，电子束蒸发是利用电磁场的配合，精确实现利用高能电子轰击坩埚中的靶材，使其熔化然后沉积在基片上，可以沉积高纯度、高精度的薄膜。

电子束蒸发是利用加速电子轰击镀膜材料，电子的动能转化为热能，使镀膜材料加热蒸发、形成薄膜。电子枪分为直式、环式和E型。电子束加热蒸发的特点是能获得极高的能量密度，可达109w/cm2，加热温度可达3000-6000℃。可蒸发难熔金属或化合物；蒸发材料置于水冷坩埚中，避免坩埚材料受污染。电子束蒸发沉积可制备高纯度薄膜。在同一蒸发沉积装置中可放置多个坩埚，实现多种不同物质的同时或分别蒸发沉积。大多数材料都可用电子束蒸发法进行蒸发。

电子束蒸发可以蒸发高熔点材料，比一般电阻加热蒸发具有热效率高、束流密度大、蒸发速度快等特点，制备的薄膜纯度高、质量好，厚度可精确控制，可广泛应用于高纯薄膜、导电玻璃等各种光学材料薄膜的制备。

电子束蒸发常用于制备Al、CO、Ni、Fe的合金或氧化物薄膜，SiO2、ZrO2薄膜以及耐腐蚀、耐高温的氧化薄膜。

从功能上来说，电子束镀膜技术有以下特点：

I）高精度镀膜：可以实现薄膜厚度和成分的精确控制，从而制备具有特定性能的薄膜。

2）可调节性强：薄膜的物理、化学性质可以轻松调整，以满足不同应用的需要。

3).薄膜质量高：制备的薄膜均匀性、致密性、稳定性好。

4）适用范围广：适用于多种材料的镀膜，包括金属、半导体、氧化物等。